美国对光刻机工业重视亲近，因而很多人都在重视光刻机的展开，期望国产光刻机能传来更多的音讯。关于这方面，确实有一些好音讯传来。比方上海微电子的产品交给。
中企昆山同兴达搬入了首台上海微电子的封测光刻机。除此之外，大族激光也宣告挨近式光刻机已投入商场。不过快乐之余也要知道，大族激光光刻机和芯片没有联系。
光刻机是芯片制作的重要设备，经过光刻机对芯片规划图画进行曝光，将图画复刻在晶圆外表，再合作刻蚀机，切开机等半导体设备，完结一系列的芯片光刻等制作索然无味。
但是要想把握光刻机量产水平却不简单，用于芯片前道制作的光刻机只要ASML、尼康、佳能、上海微电子这四家公司能出产。且制程越高的EUV光刻机，只要ASML能出产。
其他的ArF、G线、线等光刻机商场之间的发愤图强剧烈，在中低端范畴中被其他三大厂商比赛。
除此之外，还有一家厂商传来光刻机方面的音讯，他便是我国激光巨子大族激光。此公司表明晰自己的挨近式光刻机现已投入商场，而步进式光刻机已启动了用户优化。
能在光刻机方面传来音讯，不管怎么说都是个好音讯。但对这些音讯还需客观看待。
很多人得知大族激光的挨近式光刻机投入商场都感到振奋，国产光刻机又迈出重要一步，对国产芯片展开能带来助力。不过醒醒吧，大族激光光刻机和芯片没半毛钱联系。
首先要清楚光刻机的差异，依照应用范畴来区分大致分为三种。一种是芯片制效果的前道光刻机，代表产品是ASML的EUV光刻机设备。另一种是后道光刻机，用于封测。
代表产品是上海微电子向同兴达交给的两台金凸块封测光刻机。第三种是投影光刻机，这种光刻机的效果在于分立器材，LED等制作。代表产品是大族激光的挨近式光刻机。
由此可见，光刻机并非特指芯片制效果的前道光刻机，在其他范畴也需求光刻机设备。
国人对光刻机的等候值是比较高的，究竟这是布局芯片工业的重要助力。而上海微电子的前道光刻机现在量产制程为90nm，听说28nm已在验证，但仍需等候正式官宣。
不过在封测光刻机范畴，上海微电子的实力较为杰出，有才能出产2.5D/3D先进封装光刻机，金凸块封测光刻机等产品。国内封测光刻机市占比为80%，全球为40%左右。
那么大族激光在其对应的范畴内，又有怎样的水平呢？莫非真的无法涉猎芯片事务吗？
大族激光的运营事物的规划最重要的包含激光加工，通用元件、自动化设备等等。依据2月17大族激光在互动者渠道上清晰说，公司的光刻机项目应用于分立器材，无法用于芯片。
所以大族激光的光刻机项目仅限于分立器材制作，至于水平怎么，假如从特定范畴的视点来说，是中规中矩的。但假如放在光刻机工业展开史上，和干流技能存在着距离。
挨近式光刻机在上个世纪70年代就现已被美日展开研制，并推出了多款类型的设备。
就连我国也在同年代内展开JK-1型半自动挨近式光刻机的研讨，放在现在大族激光在该范畴把握的分辨率只要3-5μm。假如是做芯片的话，这样的分辨率水平远远不够。
但要是只出产分立器材的话，并没有太大问题。估量大族激光也清楚，做芯片加工环节的光刻机难度不小，发愤图强太剧烈，较高的入局门槛未必是正常事务的寻求规模。
所以大族激光所涉及到的芯片制作产品都是前道晶圆切开设备和自动化传输设备等等。
芯片工业扑朔迷离，因为芯片是高度集成的系统工程，每一个环节索然无味都有很多的供货商去参加了。但是要想站在工业链顶端，需求支付的尽力远比幻想的还要大许多。
国产光刻机确实还有前进空间，但是在这条路上历来不缺参与者。这说明很多国产厂商都在尽力前行的，不管是有怎样的光刻机设备，能获得前进就现已值得认可了。
上海微电子和大族激光光刻机项目所属范畴不相同，但可以左右开弓，不失为一件功德。
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