集微网消息，近日，中微公司在接受机构调研时表示，公司目前刻蚀设备的零部件国产化率大约60%，MOCVD设备的零部件国产化率大约80%。
目前，中微公司公司产品已进入国际供应链，公司在全球主要市场也进行渠道建设，已拥有6个境外子公司、15个区域办公室。
中微公司称，公司的刻蚀设备在工艺覆盖度方面不断的提高，在客户端验证的工艺进度良好，目前订单情况饱满。
在疫情初期，中微公司做好了相应准备：闭环生产、物流通行证、海关通关等等。公司重视疫情动态同时采取了防疫应急措施，认真贯彻国家和上海市政府关于疫情防控的决策部署，在政府有关部门的支持和公司的努力下，公司生产运行基本正常。
随着国际上先进芯片制程从14纳米到10纳米阶段向7纳米、5纳米及更先进工艺的方向发展，当前光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性逐步提升。
公司为进一步提升公司刻蚀设备产品的技术优势以及市占率水平，采取的措施包括但不限于：
（1）公司将逐渐完备研发管理机制和创新激励机制，对在研发技术、产品创新、专利申请等方面做出突出贡献的研发技术人员给予奖励，激发研发技术人员的工作热情。
（2）公司将持续加大研发投入力度，搭建更好的研发实验环境，为技术突破和产品创新提供重要的基础和保障。
（3）设备的研发方面，公司在持续改善现有设备的性能的同时，将根据先进逻辑芯片和高密度存储DRAM和3DNAND芯片的不同刻蚀需求，细分产品，开发不同的硬件特征，提升产品针对不同应用的刻蚀性能，满足多种客户的需求。与此同时，公司会按照每个客户的研发需求，定义下一代产品的技术指标和技术路线，开发能实现用户需求的新产品。
中微公司表示，MOCVD设备目前在照明、显示市场应用广泛。更重要的是Mini LED和Micro LED市场的拓展，相关市场的发展前途很大。MOCVD设备重要的应用还包括功率器件等。市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。中微公司在其中三个领域有开发相关这类的产品，公司将继续开发照明、显示领域，包括Mini LED，Micro LED，以及功率器件等等领域的外延设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。未来市场空间非常广阔。
作为国内刻蚀设备有突出贡献的公司，中微公司在整个半导体设备国产化进程中有着非常明显优势。公司长期保持大规模、高强度的研发投入，但对标国际半导体设备巨头的研发布局和研发规模，公司仍有很大的差距。公司将持续提升在研发技术方面的投入水平，进一步缩小与海外同行业巨头在研发方面的差距。
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