新华网8月8日电 据科技博客Gizmodo刊文，一般紫外线现已日渐迫临其极限，为满意需求，极紫外光将应运而生。
你或许现已知道用深紫外光可以蚀刻硅芯片，但或许你不知道的是，一般紫外线现在已达到了其极限。走运的是，一种新式光——极紫外光即将被芯片制作商运用，这将会让你的处理器跟上摩尔定律的脚步。
现在，芯片蚀刻由波长193纳米的深紫外光完结，但随着芯片体积的几许形缩水，更多具体的内容需求挤放到芯片上，这让出产商撞上了南墙。
现在呈现了极紫外光：这种具有高能量的紫外线纳米之间，如此短的波长可以确保更高的精确度，这作为芯片制作的新方法在理论上现已评论了好几年，但总是被一个主体问题阻止：要生成满意强的EUV光适当困难。假如只要少量的强度，蚀刻芯片要么不或许完结，要么需求十分长期。
但现在，光刻技能开发商阿斯麦（ASML）公司宣告了一个极紫外光商业样机，该样机本年可用80瓦特的功率发生光线瓦特。该功率下可每小时蚀刻125个芯片，这还达不到英特尔的要求，英特尔最近表明需求极紫外光出产1000瓦特来满意其出产要。但这现已满意让ASML相信到2015年极紫外光可以真实使用。
