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三美股份:森田新材料首要出产工业级无水氢氟酸、超纯微电子蚀刻及清洗级产品产品用于半导体微电子制作范畴;未来将沿着半导体用超纯蚀刻剂等方向开展

来源:米6体育app官方下载    发布时间:2024-01-31 22:49:19

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每经AI快讯,三美股份(603379.SH)8月3日在出资者互动渠道表明,森田新材料首要出产工业...

  每经AI快讯,三美股份(603379.SH)8月3日在出资者互动渠道表明,森田新材料首要出产工业级无水氢氟酸、超纯微电子蚀刻及清洗级产品,产品用于半导体微电子制作范畴;未来将沿着半导体用超纯蚀刻剂等方向开展。

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