自美国提出中止该国企业与华为多年的芯片供应以来，研发我国自己的国产芯片提上了我国的开展日程，也是当时我国市场最为急迫的一项技能，关于芯片技能开展的评论不仅在专业范畴盛行，也成为了一般民众谈论的焦点地点。
跟着理论的广泛，人类关于芯片的制造出产也有了更多的了解，芯片的制造尽管触及一系列较为杂乱的流程，可是其间最为要害的有三大流程，分别是芯片的光刻、刻蚀以及堆积。
我国芯片想要有所突破，需求从这三方面下手，我国专家以及企业也在逐个霸占这些难关，比方在刻蚀范畴，我国十分凶猛的刻蚀机厂商现已研发出来了5纳米级其他设备，而且现已被台积电引入用于芯片出产，一起该企业还在抓住研发3纳米的刻蚀机，争夺走在技能的前沿范畴。
许多人简单将刻蚀机与光刻机相提并论，严厉来说，这两大设备对应的是芯片出产的不同工序，其间刻蚀机是用以刻蚀之中运用的，光刻机自然是用于光刻这一流程。
相比较于光刻机，我国民众关于刻蚀机的评论度不高，一方面是因为我国在这方面的技能相对老练，不需求我们过多的忧虑，另一方面则是因为光刻机在芯片制造中占有的技能份额更高一些，在百分之二十五左右，而刻蚀机只是占有百分之十五。
在光刻机范畴，我国开展明显遇到了瓶颈，一方面世界先进的ASML企业没办法为我国供应该公司制造的设备，另一方面因为起步较晚，又缺少要害性技能。
国产光刻机远远难以达到先进的规范，乃至还处于低端范畴，而纵观我国刻蚀机的开展，状况就要达观许多，早些年日韩等国家最为拿手刻蚀机的出产，近些年也逐渐被我国所追逐上来。
我国一家叫做中微半导体的企业现已具有了5纳米刻蚀机的出产技能，该公司制造的设备现已通过了严厉的查验，而且被台积电引入，在华为麒麟系列芯片的出产的悉数过程中也发挥了要害性效果。
